Zpět na článek

Diskuze: Výtěžnost 40nm zdvojnásobena

Nejsi přihlášený(á)

Pro psaní a hodnocení komentářů se prosím přihlas ke svému účtu nebo si jej vytvoř.

Rychlé přihlášení přes:

fotobaNEW

Level 1

3. 8. 2009 14:52

Komentáře tohoto uživatele máš zablokované.

ono to bude asi obchdzanim fyzikalnych hranic a bud sa to preplati, alebo to nefunguje

45nm výrobní proces od Intelu
Problém s úniky proudu (leakage current) je poměrně dobře znám. Únik proudu znamená, že i vypnutým tranzistorem protéká nějaký proud a výsledkem je vyšší spotřeba a odpadní teplo, které čip vydává. Tento jev je způsoben tím, že dielektrikum v bázi tranzistoru (dnes se používá oxid křemičitý) je velmi tenký - u 65nm procesu s použitím SiO2 pouhých 1,2nm, což dělá asi 5 vrstev molekul.
https://pctuning.tyden.cz/index2.php?option=com_content&task=view&id=8150&Itemid=67&pop=1&page=0

To,ze sa to obchdza Hafmiom umozni ist pod 22 nm...(dielektrikum by na tejto technologii malo hrubku 1 molekula SiO2)

ale to je cele na nic, ked naklady styupaju do vysin
ned bude stat za chvilu nova tovaren 6 mld USD na 22 nm , pricom na 45 n stala 3 mld USD,
a vyvoj vyrobneho procesu bude satat ,3 mld USD namiesto 310 mil USA pri 45 nm

The machine to the left of the man's head in the center of the pic is a 193nm lithography machine. We weren't allowed to take close photos, but that machine costs around $75M. Fabs are expensive.
http://anandtech.com/cpuchipsets/showdoc.aspx?i=3614

fotobaNEW

Level 1

3. 8. 2009 14:53

Komentáře tohoto uživatele máš zablokované.

@fotobaNEW ked bude stat za chvilu nova tovaren 6 mld USD na 22 nm , pricomn na 45 n staka 3 mld USD,
a vyvoj vyrobneho procesu bude satat ,3 mld USD namiesto 310 mil USA pri 45 nm
tak je technicka hranica nezaujimava

The machine to the left of the man's head in the center of the pic is a 193nm lithography machine. We weren't allowed to take close photos, but that machine costs around $75M. Fabs are expensive.
http://anandtech.com/cpuchipsets/showdoc.aspx?i=3614