Čína na veletrhu ukázala obrovský pokrok ve vývoji čipů, stále však zaostává

Čína na veletrhu WeSemiBay Semiconductor Ecosystem Expo v Šen-čenu ukázala, že v oblasti polovodičů nechce zůstat závislá na Západu. Řada domácích firem zde představila špičkové inovace v litografii, softwaru pro návrh čipů i v materiálech pro jejich výrobu. Mezi nejvýraznější vystavovatele patřily společnosti Amies Technologies a SiCarrier, obě úzce napojené na státní podporu Číny.

Amies Technologies, dceřiná firma výrobce SMEE, uvedla nový systém určený pro výrobu sloučeninových polovodičů, například z gallium arzenidu (GaAs) či nitridu galia (GaN). Tyto materiály se používají především v pokročilých komunikačních a výkonových čipech. Společnost rovněž představila pokročilé inspekční systémy a nástroje pro packing a spojování waferů.

Silnou pozici na veletrhu měla i skupina SiCarrier, kterou podporuje Huawei i čínská vláda. Její vývojová divize Qiyunfang Technology představila dvě nové platformy pro návrh čipů (EDA software) postavené výhradně na domácím know-how. Podle firmy zvyšují efektivitu návrhu o 30 % a zkracují vývojový cyklus o 40 % oproti nástrojům od světových lídrů, jako jsou Cadence nebo Synopsys. 

Další dceřiná společnost SiCarrieru, Skyverse Technology, překvapila představením nového typu fotoresistu, který je podle výzkumníků vhodný i pro výrobu pomocí EUV litografie – technologie, kterou má zatím monopolně v rukou nizozemská ASML. Skyverse navíc podala několik patentů na nové chemické směsi na bázi oxidů cínu, schopné vytvářet struktury o velikosti až 3 nm.

Inovace představila i firma Long Sight, která vyvinula osciloskop s frekvenčním rozsahem 90 GHz, tedy pětkrát výkonnější než předchozí čínské modely. Zařízení umožní přesnější měření integrity signálu při výrobě čipů na 3nm a 5nm procesech, které by v příštích letech mohly vyrábět továrny SMIC nebo Huawei. Nové technologie a pokrok Číny je úctyhodný. I když technologie stále zaostávájí za těmi západními, tempo, jakým se Čína zlepšuje, bude jednou zajímavé.