Detaily o nabídce TSMC
Největší Thaiwanská továrna na výrobu mikročipů odhalila raodmapu výrobních technologií do budoucna a odkrylo roušku tajemství ohledně přechodu na HKMG technologii.
Původně se předpokládalo, že HKMG (high-k/metal gate, high-k dielektrikum a kov) technologii TSMC začne používat již u 32nm výrobního postupu, podle serveru X-Bit Labs se však plány změnily a tato pokročilá výrobní metoda bude nasazena až u 28nm procesu. Co se týče 32nm, TSMC zůstane u osvědčené metody s Low-k materiálem, oxonitridem silicia a hluboké ultrafialové litografie.
Pozdržení přechodu na high-k materiály umožní společnosti TSMC přechod na 32nm výrobní proces rychleji (osvědčené metody se snáze zavádějí), zato však absence high-k dielektrik způsobí nižší kvalitu mikročipů, porovnáme-li je s produkty IBM, Chartered nebo například Intelu, který high-k/metal gate používá již skoro rok na svých 45nm procesorech.
28nm proces pak bude "k dostání" ve dvou variantách, a to s low-k nebo právě high-k materiálem. High-k bude samozřejmě dražší a je tedy určen pro nejvýkonější a nejsložitější čipy, jako jsou procesory a grafická jádra. Zbytek méně vytěžovaných a zároveň méně komplexních čipů bude vyráběn s low-k materiálem, specialitou tohoto postupu bude zaměření se na nízkou spotřebu.
Mluvíme-li o budoucím 28nm procesu TSMC, musíme zmínit, že se jedná o tzv. full-node krok, a to i přes to, že k tradičním full-node hodnotám nepatří (rychlé vysvětlení: half-node je jakýsi mezikrůček, který pouze opticky "srazí" čip, jde tedy například o 80 nebo 55nm, full-node je pak postup, který vyžaduje změnu návrhu čipu, tedy jako například u 90nm, 65nm atd.)
28nm Low Power proces (SiON dielektrikum) má nabídnout až dvojnásobnou hustotu tranzostorů, 150% rychlost a o 30 až 50% nižší spotřebu, než je tomu u 40nm LP technologie. 28nm High Performance, tedy první HKMG proces z továren TSMC pak nabídne dvojnásobnou hustotu tranzistorů a až o 30% vyšší rychlost v porovnání s 40nm G (general purpose) procesem při zachování stejné spotřeby energie. 32nm proces se ke slovu dostane během roku 2009, obě verze 28 nanometrového pak o rok později.
Podle X-Bit Labs
